Propriétés de mélange et TCL pour processus ponctuels déterminantaux

Nom de l'orateur
Arnaud Poinas
Etablissement de l'orateur
ENS Rennes
Date et heure de l'exposé
Lieu de l'exposé
salle des séminaires

Dans cet exposé nous présenterons une classe de processus ponctuels spatiaux sur R^d utilisés pour modéliser des données au caractère répulsif, appelés processus ponctuels déterminantaux (ou DPP). Nous nous intéresserons en particulier à la propriété de dépendance négative des DPPs. Peu exploitée dans la littérature des processus ponctuels, nous montrerons en quoi elle implique des propriétés de alpha-mélange ainsi qu'un TCL pour une grande classe de fonctionnelles de DPPs éventuellement non-stationnaires, plus fort que les TCLs usuels des processus ponctuels alpha-mélangeants.